• 第一章　積體電路與潔淨技術簡史

• 第二章　晶圓上之污染物及表面狀態對元件之影響　

• 第三章　過去的潔淨技術 ─ 以 RCA 清洗法為中心

• 第四章　晶圓表面污染物的附著及清洗機構

• 第五章　新的清洗方法 ─ 以擺脫 RCA 清洗法為目標

• 第六章　溼式清洗設備

• 第七章　乾式清洗法

• 第八章　晶圓表面污染物的檢測方法

• 第九章　潔淨技術的課題及今後的展望

• 英中文索引

•楊肇政•

學歷：日本東京工業大學化學工程博士

經歷：親民工商專科學校校長

　　　國立雲林科技大學化學工程系教授

　　　兼工程學院院長

　　　工業污染防治研究中心主任

　　　工程科技研究所所長

現任：僑光技術學院校長

　　　雲林科技大學教授

專長：電化學、熔爐鹽化學、材料化學、污染防治